因為美國西方封鎖技術切斷供應鏈,過去“造不如買”的平坦路終於走到頭了,昔日“借雞下蛋”的黃粱夢也做到頭了。人家不給你,只得自己幹了。現在中國商用光刻機的水平只在90納米製程的級別,據說能生產28納米芯片的光刻機將於年底問世,此機器何時大批量投入工業生產,讓我們拭目以待。
注意,這裡的關鍵詞是“商用”,實驗室里的那些個樣機不作數,應為它們相距工業化商業化十萬八千里遠。用體育比賽做比喻,秀實驗室樣機好比跳高,跳過一次能破個紀錄就得,以後再跳不跳得過去無所謂。工業化就像跑馬拉松,遠距離長時間,一步接一步,每跑一步都很重要,缺一步都無法到達目的地。
由於西方斷供,中國欲打造自主品牌的商用光刻機,必須整合數以萬計十萬計的國產零部件。打造DUV和EUV也好,創新碳基芯片與光子芯片也罷,都需要有一台可靠的能將微米級“線路圖”打印到介質上去的高精度機器。這一點,任何企圖彎道超車者都無法躲過。
從實驗室的樣機到工業化的產品,得完成“鯉魚跳龍門”般的兩個飛躍:(1)高良率,(2)高精度的重複性。這兩點是工業化的必要條件,因為企業生產需要在短時期內生產大量合格而不虧本的芯片,如每月至少1千萬片芯片。要完成這兩個飛躍,就必須有精密製造能力與複雜系統集成能力的支持。而這兩個能力,恰恰是目前中國半導體業的短板。
所以,中國建造商用光刻機的關鍵,除了有信心有願望有毅力有資金,最關鍵的是,要有足夠強的精密製造與複雜系統集成的能力。不過此等能力的培養,需要一個相當長的時間,急也沒有用,拔苗助長很可能適得其反。一旦中國半導體業補齊了這兩個短板,打造任何類型的商用光刻機,也就水到渠成了。
|