ASML的光刻機生意中,用於成熟製程芯片製造(14及14納米以上)的DUV光刻機占營收的50%以上。一直以來,美國禁止中國購買先進製程(14納米以下)的EUV光刻機。最近幾年,美國更開始禁止ASML出售能夠實施14納米製程的DUV給中國,說不定下一步會禁售28納米級的DUV。
在這種情況下,ASML有兩個害怕,一個是短期的,一個是長遠的,可說是近慮遠憂都有。
中國在無法從海外獲得EUV與14納米級別的DUV的情況下,早就開始研發自產的28/14納米光刻機。到現在,上海微電子已十分接近研製成功商用28納米DUV,據說2023年底將完成第一台的生產。此光刻機一旦通過檢驗成功並量產用於工業化生產,加上國家政策的大力扶持,中國將會大量削減對ASML關於同類光刻機的訂單。到時哪怕美國解禁也沒有用,中國政府為了扶持自主產業,肯定會設置進口條例(障礙),於是ASML將失去20%以上的DUV光刻機生意。
但這才剛剛開始。在量產28納米光刻機後,中國將再接再厲,努力在幾年內打造出商業14納米光刻機。順利的話,三五年的光景,蹉跎一些,也就七八年的時間。如果這一光刻機如期量產,ASML的DUV生意將有可能失去半壁江山。
這是ASML的第一個害怕(近慮):害怕在不久的將來失去中國的DUV生意,也害怕中國以白菜價在世界傾銷成熟製程光刻機。
事情到這並沒有完。在攻克了14納米光刻機後,在大幅度提升了精密製造與複雜系統集成水平的基礎上,中國將更有信心研發出EUV與其他類型的先進製程的芯片製造機器。雖然這一過程會比較長(20-30年),但中國將在半導體產業中慢慢擺脫對西方技術的依賴,而西方的高端光刻機生意也很可失去中國這個潛在的超大顧客。
這是ASML的第二個害怕(遠憂):害怕中國在30年後(哪怕解禁)不會購買其高端光刻機,並成為其產業在這一檔次的強勁對手。
ASML成立近40年,前20年艱苦創業、不溫不火,後20年異軍突起、神采飛揚。再過40年,ASML還能像今天這樣獨占鰲頭、風流倜儻嗎?想想世界上百年的傳統汽車產業吧。40年,對一個公司而言,是一相當漫長的過程,對國家發展,卻是彈指之間的事了。時間,不再ASML那一方。難怪ASML的CEO憂心忡忡說道:美國的禁運正在給西方半導體業培養出一個強大而可怕的競爭對手。
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