哈哈，说芯片扯到男足去了。记得刚开放时，是体育包括男足鼓舞着科技图强，现在是科技让男足相形见绌。

“十年内X ray 光刻机就会商用”

在这一方面，世界大国都在同一起跑线上，中国不具优势。相反，中国在精密制造与复杂系统集成方面，与世界先进水平有相当的差距。先得弥补自己的短板再说吧。

项立刚的说法，国外EUV 早就研发出来了，但因为没市场，才耽搁了。现在中国不仅是要做EVU, 十年内X ray 光刻机就会商用。因为只有中国才有市场。

据说中国的某些实验室里早几年已开发出可生产14-28纳米的光刻机样机，因为良率太低（<20%）、生产成本太高、可靠性较差，无法用于产品数量巨大的商业生产。上海微电子的28纳米光刻机样机，最接近商用，希望今年年底能顺利过关。

应该不是。上海微电子正在努力攻关，试图在年底以前造出质量可靠的28纳米光刻机，这台机器2021年就有样机了，因为技术问题没过关，无法推出商业产品。目前上海微电子能够保证质量的是90纳米光刻机，这是中国商用光刻机的最高水平。

据说，中芯国际的7纳米是用原来从ASML购买的28纳米光刻机通过多次曝光而制成的。此外，传说中芯国际曾侥幸在2018年购得一台ASML14纳米光刻机。2019年以后就买不到了。如果传说属实，也有可能7纳米芯片是在ASML14纳米光刻机上生产的。

前些时候听说中芯国际被要求试用上海微电子光刻机。有无可能华为7纳米是微电子光刻机生产的？

“说不定十年EUV就被淘汰了”

不可能。DUV技术20年前就有了，现在仍然是世界顶尖光刻机公司赚钱的技术。DUV再玩十年也不会过时。EUV技术的光刻机产品，目前只占10%，再玩20年没问题，哪怕到时候出现了新的芯片技术。EUV光刻机到时最多成为成熟制程机器罢了。

“说不定十年EUV就被淘汰了。不用它，也能制造出高端芯片。X射线行不？γ射线行不？”

一切皆有可能，但，一切皆需要时间。但凡大科技项目，十年拿不下来，无论是创新，还是追赶。

好吧，抓足球！

是的，十年什么都会发生，但事情会朝两个方面走。大家各种的观点都已明了。相信不相信十年，继续争论意思不大。就静等佳音吧。

现在是电子芯片，将来还可能会有光子芯片。科研无止境！

弯道超车的技术，还有碳基芯片，量子计算机，十年后这些技术或许也会商用呢？

看到一张图，工业领域的皇冠技术都被中国摘取的差不多了。唯一令全体中国人绝望的是男足?

十年是个什么意思？十年什么都可能发生。说不定十年EUV就被淘汰了。不用它，也能制造出高端芯片。X射线行不？γ射线行不？

俺属于外行。不知随博。如果随博不是内行，你对这个领域的了解仅仅是从互联网上了解一二，是不是不足以下这种定论。因为高科技发展进程，不是靠数学推算出来的。

“中国现在每年的理工科毕业生数量都多于西方国家的总会，市场又是第一大。追赶现成的技术，肯定会比创新更快。”

中国现在不缺量，缺的是质与经验的积累。个人以为，就半导体业而言，大炼钢铁、短平快、弯道超车，似乎都无法奏效。

是的，有人在两年前就预测，中国三年后将造出EUV光刻机了。现在过了两年，没有动静。连28纳米的DUV光刻机也一波三折，原先说2021年底出产，结果拖到今年年底。

有信心不是坏事。盲目乐观，就只能带来一次次失望了。好在2-5年时间一晃而过，大家就静等佳音吧。

为何国外需要国际合作才能造光刻机？因为国外的每个国家都太小了，相当于中国的一个省。中国现在每年的理工科毕业生数量都多于西方国家的总会，市场又是第一大。追赶现成的技术，肯定会比创新更快。

这种预测实际上反过来影响投资决策。就象汉芯事件导致投资萎缩，政府投钱就会被当作打水漂。并非是客观事实。微博上的乐观估计也就是2年就能到3纳米量产。追赶技术，比创新更简单。不用花相同长度的时间。

“科技突破这东西，有时是需要长期积累的经验，有时是需要奇思妙想，有时也需要一点运气。”

有道理。科技，科学与技术，都要积累。科学发展往往需要奇思妙想。而技术发展更多时候，则需要面对并解决一个一个实际问题，往往一个不良零部件一个不当设计，就会影响精度，结果坏了一锅汤。更可恨的是，设计制造人员还不知到问题出在哪里。如此这般，从实验室验证可行性，到商业产品的完成，时间、反复、失败，那可是没完没了呀。

所以，中国在不走弯路不受打压的情况下，从28纳米到5纳米发展商业光刻机（不是实验室的所谓样机），怎么都得10年以上。

光刻机也罢，其它尖端科技设备也罢。中国现在面临的最大问题是什么？是中国现在基本被排除在国际合作的架构之外了。从某种意义上讲，美国作为科技，工业上最强大的国家，它也没可能在所有领域都处于世界第一吧？单一个光刻机，很多方面都是用的别人的独门绝技。不过它没急着，因为只要价钱合理，它保证可以买到，绝对不会有人使绊子。中国有经济实力，还怕拿钱砸不出响来？肯定可以，不过这一环扣一环的缺了一环就玩不转的高科技设备，有没有可能时候一到，环环就都突破了？万一差了一环，是不是还是等于零？科技突破这东西，有时是需要长期积累的经验，有时是需要奇思妙想，有时也需要一点运气。那些科技强国，也不会总赢，很多发展结局是功亏一篑一点不奇怪，但没问题，我没弄出来，就买你的。中国很不幸，现在可能有钱也没地方买了。然后在方方面面都肯定可以取得突破，都可以跑到别人前边？这可能是发梦吧？你想追上的可都是不容小觑的强大对手吧？而且人家也都是在向前猛跑呢？他们里边恐怕也没有一个是不想把对手甩到身后的？你想追上他们所有人，凭什么？就凭你想，就凭你有钱，这恐怕无法构成领先别人的全部必要条件吧？而且差了不是一点。

2009年，世界上就有28纳米的光刻机，今天最高档的asml光刻机是3纳米的。14年四次升级（14，7，5，3纳米），平均每次升级耗时三年半。

很简单。在供应链没问题的情况下，ASML每升级一次（如28纳米到14纳米，14纳米到7纳米，7纳米到5纳米，等等），都需要3-5年。从28纳米到5纳米，经过三次升级，需要9至15年，这还是，全球西方国家大力支持下的结果。

中国没有掌握光刻机产业链，有受到西方制裁技术封锁，每升一级，能用4-5年就算超快的了，随便一耽搁就是一两年。你比如，上海微电子早在2021年就宣布，当年年底将建成28纳米到光刻机，结果检验没过关，一拖就是两年，又宣布今年年底将建成。这还是考虑到20年举国体制研制光刻机积累下的结果。

以后呢？要过三关：14纳米，7纳米，5纳米。哪一关不需要时间？加在一起十年都不止，还没有算上反复与挫折耽误的时间。

是的。

好一个“尚存”，哈哈！

首先，你这十年是怎么推算出来的？其次，中国EUV光刻机研制目前并不是零阶段。中国究竟搞到哪一步了，这是科研机密。你看到的，都是机密以外的东西。

一点不否认，中国在半导体高端领域的确被耽误了至少五十年。除了历届政治运动，突出政治，突出党的领导，以及个人之间的勾心斗角外，还有科研界不良之风，例如学霸，贪腐，压制人才等。

在国内，俺一直从事科研研究。对此应该算是比较清楚的了。压制人才，突出政治。年轻人的科研资金，自己跑。老年人的科研资金，送上门。单位重点培养的，送出国外学习的，首先一点就是政治上积极可靠。

如果中国科研路子走的对，中国人不比荷兰人差，不比美国人差。荷兰人三十年从零到领先世界，中国人也能做到。

当然，西方围堵打压确实阻碍了中国半导体领域的研究发展。但也不是坏事。这与穷则思变，一个道理。

如果是纯光学系统，那很难说什么时候做出来。中国最怕的是精密机械系统。

随意博主理性尚存，很可贵。

3纳米5纳米芯片用于与否，可以讨论。现在中国需要的是，自产的14纳米的DUV光刻机。有了这个，很多军用民用的急需就得到了缓解。

汉芯事件也符合硅谷的优良传统，fake it until you make it. 不过是被抓到把柄被台湾利用来打击大陆的芯片进展。做为外行预测时间长短意义不大。3纳米对军事用途不大，应该是AI训练用。中国的下一个突破应该是GPU。