ASML的光刻机生意中,用于成熟制程芯片制造(14及14纳米以上)的DUV光刻机占营收的50%以上。一直以来,美国禁止中国购买先进制程(14纳米以下)的EUV光刻机。最近几年,美国更开始禁止ASML出售能够实施14纳米制程的DUV给中国,说不定下一步会禁售28纳米级的DUV。
在这种情况下,ASML有两个害怕,一个是短期的,一个是长远的,可说是近虑远忧都有。
中国在无法从海外获得EUV与14纳米级别的DUV的情况下,早就开始研发自产的28/14纳米光刻机。到现在,上海微电子已十分接近研制成功商用28纳米DUV,据说2023年底将完成第一台的生产。此光刻机一旦通过检验成功并量产用于工业化生产,加上国家政策的大力扶持,中国将会大量削减对ASML关于同类光刻机的订单。到时哪怕美国解禁也没有用,中国政府为了扶持自主产业,肯定会设置进口条例(障碍),于是ASML将失去20%以上的DUV光刻机生意。
但这才刚刚开始。在量产28纳米光刻机后,中国将再接再厉,努力在几年内打造出商业14纳米光刻机。顺利的话,三五年的光景,蹉跎一些,也就七八年的时间。如果这一光刻机如期量产,ASML的DUV生意将有可能失去半壁江山。
这是ASML的第一个害怕(近虑):害怕在不久的将来失去中国的DUV生意,也害怕中国以白菜价在世界倾销成熟制程光刻机。
事情到这并没有完。在攻克了14纳米光刻机后,在大幅度提升了精密制造与复杂系统集成水平的基础上,中国将更有信心研发出EUV与其他类型的先进制程的芯片制造机器。虽然这一过程会比较长(20-30年),但中国将在半导体产业中慢慢摆脱对西方技术的依赖,而西方的高端光刻机生意也很可失去中国这个潜在的超大顾客。
这是ASML的第二个害怕(远忧):害怕中国在30年后(哪怕解禁)不会购买其高端光刻机,并成为其产业在这一档次的强劲对手。
ASML成立近40年,前20年艰苦创业、不温不火,后20年异军突起、神采飞扬。再过40年,ASML还能像今天这样独占鳌头、风流倜傥吗?想想世界上百年的传统汽车产业吧。40年,对一个公司而言,是一相当漫长的过程,对国家发展,却是弹指之间的事了。时间,不再ASML那一方。难怪ASML的CEO忧心忡忡说道:美国的禁运正在给西方半导体业培养出一个强大而可怕的竞争对手。
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